单选题掩膜板在光刻工艺中的主要作用是什么？(　　)

A、作为光的传输介质

B、作为光刻复制图形的基准和蓝本

C、提供光的反射

D、保护晶圆表面

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单选题硅晶圆的制备中，直拉法的主要设备是什么？(　　)

A、拉晶仪

B、射频加热器

C、晶体生长炉

D、研磨机

单选题 AEC/APC在半导体工艺控制中的应用是什么？(　　)

A、用于监视和显示设备的当前状态、维护计划、生产计划等

B、用于生产线的监控和控制

C、用于晶圆的清洗和蚀刻

D、用于晶圆的光刻和成膜

单选题晶圆传送盒（FOUP）的主要作用是什么？(　　)

A、保护、运送、并储存晶圆

B、进行晶圆的清洗和蚀刻

C、进行晶圆的光刻和成膜

D、进行晶圆的离子注入和热处理

单选题晶圆厂的工作是什么？(　　)

A、摄取晶圆，经过处理步骤产出成品微处理器

B、制造晶圆传送盒

C、进行晶圆的清洗和蚀刻

D、进行晶圆的光刻和成膜

单选题前段制程和后段制程的流程分别是什么？(　　)

A、前段制程是“流水型”，后段制程是“循环型”

B、前段制程是“循环型”，后段制程是“流水型”

C、前段制程和后段制程都是“循环型”

D、前段制程和后段制程都是“流水型”

单选题晶圆厂中，晶圆表面所需的洁净度主要受哪些因素影响？(　　)

A、颗粒吸附和金属离子

B、有机吸附和自然氧化层

C、颗粒吸附、金属离子和有机吸附

D、颗粒吸附、金属离子、有机吸附和自然氧化层

单选题制造设备与产能的关系是什么？(　　)

A、由于设备需要定期停机维护以及故障维修，需要将多台产能相近的设备组成小规模生产

B、线，通过增加小规模生产线的做法提高产能

C、制造设备不需要定期维护，因此不需要组成小规模生产线

D、制造设备只需要定期维护，不需要组成小规模生产线

E、制造设备不需要维护，因此不需要考虑产能问题

单选题无尘室的高洁净度主要是依靠（）实现的?(　　)

A、风扇过滤单元

B、制造设备

C、清洗设备

D、晶圆载具